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“当前的行业现状是，193纳米液浸式光刻机系统是最为成熟的技术，在精确度以及成本上做到了一个近乎完美的平衡，短时间内很难被取代，但终究也是要被取代的，就是极紫外光刻机技术。”

安静的会议大厅里，罗晟有条不紊的说道：“这样做的风险是很高，但是不可否认的是半导体业的发展也的的确确到了一个新的转折点，摩尔定律正在面临巨大的挑战，没有人能够确定去年总产值3000亿美元的半导体产业将如何引导未来5年或10年内的发展。”

“也无人能够知晓‘后摩尔定律’时代的半导体行业未来会是什么样子。”说到这里罗晟心中补充了一句“除了我”，停顿了片刻继续说道：

“利润的下降也可能是无法避免的，但是如果摩尔定律能够有效的避免半导体业营业额的下降，即便只有15%，其现金流也仍然是整个美国游戏产业营业额的两倍。”

朱昱下意识的点点头，在罗晟停顿的时候发言道：“光刻、蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素，但是能实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商就是这么做的，把晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减少波长，一直到光谱上的紫外端……”

罗晟继续说道：“摩尔定律的终点已经被大家预见到了，半导体行业也一直都在寻找方法来保持技术革新和进步，全球的领先芯片制造厂商们也在努力改进技术，即：将晶片从光刻机中加工取出后再放入其中，并在原来的位置精准的印刷出下一层图像，EUV是较为不同的一个。”

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