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「邓院长，我代表京城半导体公司，奖励研发部500万元。」

啪啪……

8月15日，接到总经理魏建国的电话，京城光刻机研究院研发成功了90nm制程工艺光刻机，孙健非常高兴，第二天上午就乘飞机从江城来到京城，在京城光刻机研究院会议室接见了包括院长邓国辉院士、副院长欧阳明院士、副院长陈伟长院士、光刻机自动化研究所所长夏季常院士在内的200多名90nm制程工艺光刻机研发部的研发人员。

京城光刻机研究院在不到一年的时间内研发成功90nm光刻机，厚积薄发，孙健不会感到惊讶，经过近9年的快速发展，加上舍得投资，京城光刻机研究院下属10家研究所（部）人才济济，国内近八成的顶尖光刻机人才都在这里。

京城半导体公司拥有4名光刻机专业顶尖的院士，教授、研究员、教授级工程师近百人，这在国内科研院所和公司中都是绝无仅有的事情。

如今没有专业博士文凭，很难进入京城光刻机研究院。

1998年9月，GCA和Nikon先后研发成功90nm制程工艺的光刻机；2000年8月，Intel、IBM、IT、AMD、HP各自投资25亿美元（包括基建费用）建设的一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线先后量产。

2000年，ASML、Canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机。

1999年，PGCA半导体公司申请从GCA购买一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到美国商务部否决，重新申请购买一条12英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线，3个月后才批准，2000年12月7日，这条生产线才量产。

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