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如果说航空发动机，代表了人类科技领域发展的顶级水平，那么光刻机就是半导体工业界最为耀眼的明珠。

作为光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，光刻机涉及到精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。

就在去年。

郁金香国的asml成功推出了第一台euv光刻机nxe，也是第一台第五代光刻机。

此后十年，乃至可预见的更长的时间段中，asml都将百分百垄断全球中高端光刻机市场，成为全球各国芯片制造产业无法绕开的一个高门槛。

说起来。

华夏光刻机设备的研制，起步时间其实并不晚。

早在1970年，就先后有清北大学精密仪器系、华夏科学院光电技术研究所、华夏电科等投入研制。

到了2006年，华夏更是重磅发布《华夏中长期科学技术发展规划纲要》，其中的01、02专项都跟半导体产业相关。

不可谓不重视。

02专项设定的目标，就是实现28nm芯片产业链的国产化，也是半导体行业的主流芯片，广泛应用于航空航天、智能汽车、物联网等领域。

到了2021年。

刻蚀、离子注入、薄膜沉积等几十种成套工艺设备，都已经通过大生产线的验证，实现了28nm制造装备和工艺的国产化。

光刻胶、特种气体、溅射靶材等，也都实现了28nm工艺的突破。

通过02专项的实施，华夏在芯片设计、制造、封装、设备以及材料五大领域，都取得很多突破性进展，填补了很多空白。

比如在芯片设计领域，华威实现了5nm手机芯片的自主设计。

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