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第一百零六章 1纳米光刻机

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PS:我是没想明白这一章哪里违“规矩”,审一个多小时,哭唧唧

““太阿”设计一台目前市面最高精度的光刻机出来。”

“好的先生。大概需要2个小时。”

光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的特殊材料,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的理论,获得比模板更小的曝光图样。

上个世纪末,国内大多数研发团队就是这样陷入无钱,无人的尴尬境地,最终一个个研发团队解散。研究人员为了钱或是下海经商,或是出国。

“先生,1纳米光刻机设计完成了。是否制造出来?”

“造一台看看效果。把技术资料和设计图发给我看看。”

“太阿”在搭配光量子计算机的庞大算力,在技术壁垒没有跨越时代的情况下,是当之无愧的全能。白涟将到资料翻来曝光系统设计上。这才是光刻机的重点。

这是高能激光发生器的运作原理?这个透镜也是高能激光发生器的设计原理之一。

白涟想了想尝试对系统发出询问。

“系统,优化光刻机需要多少生物能?”

“主人,优化光刻机需要31万生物能,您暂时无法进行优化。”

白涟感觉到刚刚系统回答的时候身体被抽取了一部分能量。发起询问也是消耗生物能的?还是因为问题太过复杂所以抽取能量才需要能量?

将设计图发给陈庆远,让他在官网上公布光刻机突破的事情。并且告诉陈庆远,如果国外地方资本家们再找上门来就告诉他们。

要么放开电池市场,要么放开高端芯片市场,二选一!

陈庆远当然知道那种无厘头的制裁让白涟生气了,一直以来公司都绕着半导体行业,甚至连对方市场都没进入,现在当头盖脸的给出制裁?

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