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一顾所长同意对重光公开全所员工档案,并召开全体员工大会,这让胡一亭感到满意,于是接下来大家继续讨论晶圆厂的设备和214所的技术储备。顾所长身边已经渐渐聚集了一批所里的工程师们,足有十五、六人之多,都好奇地打量着胡一亭和康耀祥,认真地听他们说什么。
康耀祥毫不怯场,站在无尘车间的走廊里,隔着墙玻璃指着厂房里的光刻机道:“作为试验线,1.5微米还是保守了。
现在成都光机所已经拿出了0.8微米分步重复投影光刻机,今年1月份以工艺流片成功率80%以上的好成绩通过了国家验收,目前正在北都微电子中心进行设备的安装调试。
按照计划,他们打算今年年底之前,大概11月12月的样子,就可以开始进行国产设备的‘0.8微米CMOS全套工艺’的工艺考核,预计半年之内可以见分晓。
到时候咱们国家就算是正式拥有了属于自己的0.8微米制程全套生产设备和制造工艺了!我看这次考核一定能通过!原因很简单,目前0.8微米制程工艺已经在微电子所实现了高良品率的实验通过,而且这段时间经过908华晶工程的检验,完全可以满足高良品率的生产制造任务!
华晶厂目前以0.8微米制程工艺生产我们重光的CMP1J1芯片,良品率已经超过了70%,并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了0.8微米制程上,达到了60%以上的良品率。
所以乐观地说,我国目前基本上是已经掌握了了0.8微米制程工艺和设备制造的自主技术,唯独欠缺的是0.8微米制程下的IC设计能力,这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验,毕竟目前可供使用的试验线实在太少了,屈指可数的那几家IC设计单位,也都没有很强的工艺储备,研发经验比起国外公司差的太多。
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