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沪市,张江技术园区。
中微半导体总部的四周,布置了密密麻麻的电网和监控器,安保力量更是配备齐全。
一座不起眼的工厂里,沙领导、郑韩等一众领导,在陆飞的带领下,来到车间外。
隔着玻璃窗,就能看到一个巨型公交车大小的光刻机,身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物,一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。
“因为芯片制造的过程中,并不是一次曝光就可以完成,而是需要经历多次曝光。”
“在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一個需要曝光的区域,想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准,双工作台就必须做到精度高而且操作时间短,这项技术本来只有ASML有,但现在已经被我们突破了。”
陆飞滔滔不绝,如数家珍。
领导们一言不发,目不转睛地盯着运行中的光刻机,虽然不是第一次见到光刻机,但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机,都压不住激动的心情,尽可能地往前靠,想凑得更一些,看得更清楚一些。
“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”
沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”
“哪里,哪里,领导。”
陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
“说说吧,到底是怎么搞出来的?”
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